问题。

    能量越大，绘制芯片电路图的时候，曝光时间就越短。

    这样的话，

    不仅能够提升生产效率，

    更为关键的是，

    期间出现问题的几率也就越小。

    而电子束光源，

    说白了就是高速运动的电子束，产生的能量可想而知！

    比起极紫外光，

    能量至少提高十倍！

    最后再说曝光能量均匀分布的问题。

    这就和光源平行度有很大的关系了。

    极紫外光平行度可以达到90%，

    这个数据已经非常恐怖了！

    可与电子束光源相比，

    双方就完全不是一个等级了。

    因为电子束光源平行度能够达到100%，每个电子的运行方向和速度完全一致，

    可以说是最完美的平行光。

    绘制芯片电路图的时候，光线完全均匀照射，曝光能量自然也是相当均匀的。

    ——————————

    第三更。